金宏气体原厂自主生产的超纯氨应用于晶圆清洗、在CVD过程中生成氮化硅或氮化镓等薄膜。
7N超纯氨(Q/320507 LAS03-2011)
项目名称
超纯氨
氨(NH3)纯度(体积分数)/10-2 ≥
99.99999
氢(H2)含量(体积分数)/10-6 <
0.01
氧+氩(O2+Ar)含量(体积分数)/10-6 <
氮(N2)含量(体积分数)/10-6 <
一氧化碳(CO)含量(体积分数)/10-6 <
二氧化碳(CO2)含量(体积分数)/10-6 <
烃(C1~C3)含量(体积分数)/10-6 <
水分(H2O)含量(体积分数)/10-6 <
0.05
总杂质含量(体积分数)/10-6 ≤
0.1
包装
容积
重量
连接阀门
小钢瓶
40L 44L 47L
22Kg
CGA660 DISS720
Y瓶
440L
230Kg
DISS720(手动)DISS720(气动)
T瓶
930L
480Kg
DISS720(手动)
超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料,其反应为: 750—850℃ :SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2 ,850—900℃ :SiCl4+NH3---Si3N4+HCl+N2。虽然NH3在半导体制造用量不大,但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料,NH3的质量好坏直接决定发光二极管(LED)的亮度,它的价格高低左右着LED的经济性。发光二极管LED是继爱迪生发明电灯后,人类又一次照明工业的革命,发达国家(包括我国台湾省在内)为在此领域获得更大的主动权,纷纷成立国家照明工作委员会,LED现已产业化生产,台湾生产的LED已大量进入我国市场,为打破专利垄断,中国成立了照明工作领导办公室,中国将在2006年全面推广半导体照明,届时对NH3的需求将猛增。LED是利用超纯氨同三甲基镓(被称为MO源)反应,生成GaN半导体的,其反应为 650℃ Ga(CH3)3+NH3 ,GaN+CH4N2 发达国家光电子发展速猛,处于成熟期,因此,极大推动气体公司对氨提高纯度的研究,AP公司的Solkatronic chemicals 推出的NH3纯度达到6.4N,被称为“Blue Ammonia”。它是采用工业氨经吸附——精馏——深度化学净化等联合工艺,对氨进行净化。亚洲的日本昭合电工株式会社,有电子级氨对外出售,目前,我国许多LED生产用户所用的进口氨,基本上是普莱克斯、APCI和日本昭合电工。我国对氨净化、分析等的研究起步于80年代,当时为满足我国微电子工业的需要,光明化工研究设计院、北京氧气厂先后开展了电子级高纯氨的研究与生产,生产的产品满足了当时我国电子工业对氨的急需,进入2000年光明院又承担了国家十五“863”“超纯氨的研究与产业化生产”课题,在国家资金的资助下,经过系列的研究,克服了氨净化过程中的“马蹄型”效益,在原有的基础上,对氨净化技术,大规模生产技术,产品包装技术等诸多方面有突破性进展,现有100kg超纯氨包装容器20多支,往返生产与用户之间,整个生产线实现了自动化,产量达到500t/a,生产的产品三年来一直应用于LED生产线,是目前国内唯一真正用于LED大规模实用化生产流水线的氨生产厂,预计在今年年底,随着用户对MOCVD设备的再次扩大,国产氨用量将大规模攀升。 联系电话:400-0512-037 手机:18015515971